光刻機是工業(yè)皇冠上面最閃亮的一顆明珠——畢竟會自己發(fā)光。

    只不過，這顆明珠的技術和各種部件的科技程度很高，但是這顆明珠的設備運行原理其實，比較簡單。

    首先是最核心的光刻機光源部件。

    在激光器發(fā)光之后，就會經過濾波和矯正，然后進入能量控制器、光束成型裝置等入高精尖設備，經過處理之后的光，才能夠進入光掩膜臺。

    光刻機有一個名稱，又叫做掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)高精尖機器設備，采用的就是類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

    光掩膜臺這個部件上面，就會放置半導體芯片設計公司設計出來的光掩膜，之后經過物鏡投射到曝光臺。

    曝光臺上，則是放置著8寸或者12英寸晶的高純度晶圓片，這些晶圓片上面都涂抹有對應的光刻膠，因為光刻膠具有光敏感性，紫外光就會在晶圓上蝕刻出電路。

    阿斯麥公司之所以直接下場，德國光學蔡司、英特爾、德州儀器這些企業(yè)之所以會推動針對大夏新科的行動，就是因為大夏新科此前已經解決了晶圓制造和光刻膠調配的技術難關。

    同時，大夏新科又是藍星半導體芯片設計行業(yè)頂尖的存在。

    距離這個可怕的惡魔企業(yè)統(tǒng)治半導體產業(yè)，只差光刻機這一個環(huán)節(jié)了。

    因為激光器這個部件負責光源產生，而光源對制程工藝擁有決定性影響，從NUV近紫外激光進入到DUV深紫外激光，再到現(xiàn)在阿斯麥公司剛剛聯(lián)合全球科學家、工程師開發(fā)出來的EUV極紫外光。

    它們本來已經放下了一道道柵欄，阻止后來者超越自己。

    但是哪里想到會出現(xiàn)章如鏡這種“怪胎”，在西方半導體行業(yè)混跡大半輩子，臨了席卷一堆技術，和自己培養(yǎng)的工程師，跑到大夏聯(lián)邦去建工廠，甚至還利用人脈，搞到了DUV深紫外激光的光刻機和一整套芯片代工技術？

    好不容易等這個老家伙沒有那么大的雄心壯志，培養(yǎng)出來的人才也僅僅只能夠“守家”，結果又跑出個“門外漢”，帶領大夏聯(lián)邦一眾半導體廠商、研究機構，突破了一個又一個柵欄的阻攔！？

    現(xiàn)在市面上因為大夏聯(lián)邦人力資源比較便宜，產業(yè)鏈又頗為完整的原因，光刻膠都已經變得快像“廉價膠水”，讓不少霓虹半導體材料企業(yè)的日子不好過起來。

    雖然大夏新科現(xiàn)在好像是“沒有大動作”了，但是不少西方半導體企業(yè)都還是感覺有些許危機感。

    于是，阿美瑞克的官方也開始提議，讓臺積電到美洲大陸建設半導體工廠，以后盡可能在這個本土工廠生產高精尖半導體芯片。

    不列顛聯(lián)合德國、法蘭西等老牌強國和歐洲其他半導體公司，想著如何再現(xiàn)歐洲半導體聯(lián)盟的輝煌。