在繁榮的經(jīng)濟發(fā)展陽光之下，是大夏聯(lián)邦的高精尖科技一直都被西方企業(yè)“嚴防死守”。

    當初開發(fā)芯片設計項目，這些大夏聯(lián)邦的高校教授和海歸員工們還能夠提建議，給素材，但是當科技進步的步伐來到了半導體產(chǎn)業(yè)的光刻機設備和光源技術的開發(fā)時，已然步履維艱。

    要達到國際先進制造水平，并不是一日之功可畢。

    周瑜雖然一直不想過多參與半導體行業(yè)的技術發(fā)展當中，但是隨著國外實驗室數(shù)據(jù)和技術方案給出的技術級別已經(jīng)達到世界先進水平后，他已然沒有辦法“坐以待斃”。

    畢竟國外實驗室并非是阿拉丁神燈，不可能存在項目都還沒有做，就冒出數(shù)據(jù)和方案的情況。

    而且再進一步，就是真的技術革新了，國外頂級實驗室要是有這技術，不早就成立公司開始賺大錢了？

    所以在陸續(xù)的交流合作當中，周瑜開始逐漸展露其在高精尖制造領域的敏銳嗅覺和天才想法。

    “阿斯麥公司的EUV光刻機，采用的是高能脈沖激光轟擊液態(tài)錫靶，形成等離子體，誕生波長13.5納米的EUV光源，根據(jù)這份數(shù)據(jù)，其至少有250瓦的功率。

    隨著半導體芯片工藝的制程越來越小，EUV光刻機的光源功率也必定會逐步上升，別看現(xiàn)在才兩百多瓦，后續(xù)很可能達到千瓦級別。

    我們要想在穩(wěn)態(tài)微聚束光的SSBM光源上面做文章，除了深入研究這些理論數(shù)據(jù)之外，還要必須進行足夠多的實驗，才能夠發(fā)展技術，超越國外那些機構實驗室！

    而且穩(wěn)態(tài)微聚束光的SSBM光源上升潛力比EUV光源更大，并且具備向更短波長擴展的能力。

    下個月，新的設備和資金就能到位，到時候咱們就一邊學，一邊做實驗，絕對能夠攻破難關！”

    錢，大夏新科現(xiàn)在是不缺的。

    人，在人力資源部門全球瘋跑，高校師生們的共同努力下，雖然還有缺口，但是缺口并不算太大。

    李賢審與周瑜交流之后，便徑直換上工作服，回到了實驗室。

    而周瑜也沒有轉(zhuǎn)身回到自己的辦公室休息，而是帶著設備研發(fā)部主管鄭承瀚、曾經(jīng)的技術研發(fā)部主管，田健恒兩人，去往了另一個實驗廠區(qū)。

    鄭承瀚上世紀畢業(yè)于哈工大夜校，現(xiàn)在一邊在設備管理研發(fā)部門，主持工作，一邊和哈工大的教授們保持著緊密聯(lián)系，時常會走這些教授的渠道，招聘哈工大的學生。

    而前技術研發(fā)部主管田健恒，這位新科公司前董事長在上世紀從某知名大學拐來的高材生，現(xiàn)在已經(jīng)不用單人帶團隊搞技術研發(fā)，但肩膀上的擔子卻沒有卸下，反而是更加努力學習著，讓以前的老工程師們，不會被時代拋棄。