其實大夏聯邦一直都不缺乏那種為了自主產業發展而努力的科研人員，只是受限于很多產業的市場環境與當時大夏聯邦的經濟條件，這部分科研人員并沒有辦法得到足夠多的支持。

    現在的全球半導體產業中，大夏聯邦的科研人才份額占比雖然不多，但是行業人員總量卻已經是最多的了，而且很多國外西方半導體公司機構的項目成功，其背后團隊當中，也不乏有黃種人的身影。

    比如阿美瑞克的半導體巨頭——應用材料總公司，其公司副總裁就是華裔，目前藍星的半導體刻蝕產業的技術主要推動者，也是黃種人。

    而在周瑜的規劃中，李賢審、楊剛省、李明偉等人，就是未來要上半導體行業教材的人。

    至于他？

    一個年紀不大的伯樂罷了。

    什么都會，還可以說是博聞強記，努力學習的成果。

    要是什么都精通，很可能過不了幾年，周瑜就得擔心自己的毛發、血液標本會不會被某些不法分子拿去做一些違法犯罪的事情。

    李賢審、楊剛省、李明偉、李毅風等人在和周瑜交流之后，雖然心潮澎湃，甚至可以說是現在就想住在實驗室里。

    但在仔細探索和商量之后，卻都發現了一個同樣的問題——光源。

    光刻機之所以會被行業內外人士稱為“光刻機”，其實是一個很生動具體的稱呼，它就是利用光的特殊原理，雕刻芯片的高精尖機器。

    光，在這臺機器上，就是手術刀，就是工兵最需要的利器。

    李賢審目光凝重道：“據說，荷蘭阿斯麥公司將要賣給臺積電的EUV光刻機所用的光源是極紫外光源，這個光源制造出來的EUV光刻機，不僅可以輕松制造出臺積電制程標準的10納米芯片，或許，如果臺積電的工程師足夠激進的話，恐怕幾年內，就可能將其推進到10納米以下的高性能芯片。”

    楊剛省也在一旁說道：“這件事情，我還算比較清楚，因為光刻膠在這兩者的應用也不一樣。

    荷蘭阿斯麥公司聯合全球一眾科學家、工程師，搞出來的這臺EUV光刻機，據說其使用的極深紫外線，其光源波長為13.5納米。

    而現在夏芯國際還在使用的DUV光刻機，則是使用的深紫外線，其光源波長為193納米。

    EUV光刻機的光源是通過激光激發等離子體來發射EUV光子，而DUV光刻機的光源為準分子激光。因為光源產生方式的不同，所以我們也要開發不同類型的專用光刻膠。