不過楊剛省的擔憂，在周瑜的講述之后，很快就散去了不少。

    “光刻膠這個材料，雖然極其重要，但是必須綜合評價各性能指標與客戶需求匹配性。

    在我了解的情況當中，光刻膠廠商在一個型號或者一個系列的光刻膠目錄下，有十幾個甚至幾十個品種，以滿足不同客戶的需求。

    因此光刻膠性能好壞并不能簡單的以各個指標的絕對值進行判斷，還須經過充足的光刻工藝評估，符合客戶需求的，才是最優秀的材料，所以我們不僅需要開發光刻膠，還需要足夠了解光刻膠的成員與各芯片代工企業溝通，知道材料的偏性。

    而且按照光照后顯影時與顯影液產生的化學反應劃分，它還可以分為正膠與負膠。正膠的光敏成分在光照下會分解成為短鏈結構，從而在顯影環節中會被顯影液去除，因此在光線照到的區域，會被顯影液去除，在蝕刻過程中光照到的區域會被等離子化氣體蝕刻去除，最終留下的圖樣是曝光工序中光線所沒有照到的區域。

    負膠與正膠的圖形轉移過程找好相反。聚合物的短鏈分子在光照條件下發生聚合反應，形成難以被顯影液除去的聚合體系，未被光照的區域光刻膠被去除，在后續的刻蝕中被移除，形成與掩模板上相反的結構。

    對于正膠與反膠而言，雖然進入DUV時代以后，正膠成為了絕對的主流，但這并不意味著負膠的性能落后于正膠。

    不過現在EUV光刻機進入真正的高端代工產業，臺積電肯定要解決光源強度不足的問題，化學放大光刻膠或將成為主流。

    化學放大型光刻膠主要組分擺闊成膜樹脂、光致產酸劑、添加劑、溶劑。

    由于化學放大型光刻膠的量子效率遠遠高于其他體系，因此化學放大反應也幾乎成為了深紫外時代以來光刻膠配方設計的唯一路線。

    楊剛省主管曾經在臺積電的光刻膠項目工作過，不過現在已經過了競業協議期，并且參與的也是新技術開發，所以，您愿意帶領團隊，繼續在光刻膠這個行業奮斗嗎？”

    楊剛省沒想到周瑜連自己的競業協議時間都記得，而且還知道現在光刻膠最新項目的發展方向。

    想到曾經遇到的那些惡心遭遇，雖然年紀已經不算年輕，但楊剛省還是有那么一口氣在。

    他當即抬起頭，開口說道：“我愿意帶領團隊，只要公司能夠給予我們團隊足夠的支持，光刻膠這個難啃的骨頭，我們團隊哪怕崩了牙齒，也得啃下來！”

    足夠的支持?

    周瑜并沒有對這位大將要資源而感到氣憤，畢竟古代皇帝都知道不差餓兵，現在科研攻堅需要的資源更多，沒有設備和材料、技術支援，哪怕是讓諾獎得主去搞項目，人家也不可能手搓成功。

    不過周瑜并沒有單獨給楊剛省保障，而是對這位大將點了點頭，轉而對所有研發人員說道：“咱們公司研發項目一項都是不遺余力，尋找任何可能的幫助。

    輔旦高校、西工大等有合作的高校教授都會給予我們幫助支持，同時公司其他研發團隊的成員也會團結互助，大家將項目方案提交審核通過之后，設備采購部門也會配合大家的需求，進行采購。