光刻機是工業(yè)皇冠上面最閃亮的一顆明珠——畢竟會自己發(fā)光。

    只不過，這顆明珠的技術和各種部件的科技程度很高，但是這顆明珠的設備運行原理其實，比較簡單。

    首先是最核心的光刻機光源部件。

    在激光器發(fā)光之后，就會經(jīng)過濾波和矯正，然后進入能量控制器、光束成型裝置等入高精尖設備，經(jīng)過處理之后的光，才能夠進入光掩膜臺。

    光刻機有一個名稱，又叫做掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)高精尖機器設備，采用的就是類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

    光掩膜臺這個部件上面，就會放置半導體芯片設計公司設計出來的光掩膜，之后經(jīng)過物鏡投射到曝光臺。

    曝光臺上，則是放置著8寸或者12英寸晶的高純度晶圓片，這些晶圓片上面都涂抹有對應的光刻膠，因為光刻膠具有光敏感性，紫外光就會在晶圓上蝕刻出電路。

    阿斯麥公司之所以直接下場，德國光學蔡司、英特爾、德州儀器這些企業(yè)之所以會推動針對大夏新科的行動，就是因為大夏新科此前已經(jīng)解決了晶圓制造和光刻膠調(diào)配的技術難關。

    同時，大夏新科又是藍星半導體芯片設計行業(yè)頂尖的存在。

    距離這個可怕的惡魔企業(yè)統(tǒng)治半導體產(chǎn)業(yè)，只差光刻機這一個環(huán)節(jié)了。

    因為激光器這個部件負責光源產(chǎn)生，而光源對制程工藝擁有決定性影響，從NUV近紫外激光進入到DUV深紫外激光，再到現(xiàn)在阿斯麥公司剛剛聯(lián)合全球科學家、工程師開發(fā)出來的EUV極紫外光。

    它們本來已經(jīng)放下了一道道柵欄，阻止后來者超越自己。

    但是哪里想到會出現(xiàn)章如鏡這種“怪胎”，在西方半導體行業(yè)混跡大半輩子，臨了席卷一堆技術，和自己培養(yǎng)的工程師，跑到大夏聯(lián)邦去建工廠，甚至還利用人脈，搞到了DUV深紫外激光的光刻機和一整套芯片代工技術？

    好不容易等這個老家伙沒有那么大的雄心壯志，培養(yǎng)出來的人才也僅僅只能夠“守家”，結果又跑出個“門外漢”，帶領大夏聯(lián)邦一眾半導體廠商、研究機構，突破了一個又一個柵欄的阻攔！？

    現(xiàn)在市面上因為大夏聯(lián)邦人力資源比較便宜，產(chǎn)業(yè)鏈又頗為完整的原因，光刻膠都已經(jīng)變得快像“廉價膠水”，讓不少霓虹半導體材料企業(yè)的日子不好過起來。

    雖然大夏新科現(xiàn)在好像是“沒有大動作”了，但是不少西方半導體企業(yè)都還是感覺有些許危機感。

    于是，阿美瑞克的官方也開始提議，讓臺積電到美洲大陸建設半導體工廠，以后盡可能在這個本土工廠生產(chǎn)高精尖半導體芯片。

    不列顛聯(lián)合德國、法蘭西等老牌強國和歐洲其他半導體公司，想著如何再現(xiàn)歐洲半導體聯(lián)盟的輝煌。