一旦BSEC光源研究所在重生者的指引下，在ArF準分子激光器專利技術的基礎上，研制成功ArFi準分子激光器和浸沒式光刻系統，雖然浸沒式光刻系統的專利技術屬于BSEC，但根據雙方簽訂的專利技術轉讓協定，ArFi準分子激光器的專利技術就屬于GCA！

    GCA生產ArFi準分子激光器，購買BSEC的浸沒式光刻系統專利技術，也能生產浸沒式光刻機。

    早一日研制成功8英寸晶圓、350nm制程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，制程工藝最高就能提升到250nm，憑借提高35%的生產效率，Gikon光刻機的高端市場份額，奪回全球高端光刻機市場。

    峰回路轉！

    艾德里安、湯普森的心情比魏建國、鄧國輝還急迫。

    談判和簽訂專利技術轉讓協定期間，孫健不在京城，艾德里安和魏建國都拿著他簽署的代理書談判，雙方公司的律師在場監督，并在專利技術轉讓協定上簽字證明。

    專利技術轉讓協定符合中美法律。

    巴T協定禁止8英寸晶圓和500nm制程工藝的半導體生產線出口中G，但沒有禁止ArF準分子激光器出口，800nm制程工藝專利技術也不在禁令之中。

    美國人知道就是中G光刻機公司耗費巨資買到了ArF準分子激光器和800nm制程工藝專利技術，也生產不出6英寸晶圓和800nm制程工藝的半導體生產線。

    光刻機被稱為半導體產業皇冠上的明珠，占一條半導體生產線總投資的1/3，除了光源、鏡頭和工作臺三大核心技術之外，還需要光速矯正器、能量控制器、遮光器、能量探測器、掩膜版、掩膜臺和光束形狀設置，復雜程度超過大型航空發動機。

    就像一般飛機制造廠買到一臺頂級航空發動機，也不能生產頂級飛機。

    國內光刻機半導體設備產業停滯了近十年，相關配套產業掉隊太遠，不是短時間用錢能買來的！

    BSEC如今拿到了ArF準分子激光器和800nm制程工藝專利技術，還有獨創的磁懸浮式雙工作臺系統，既不能生產8英寸晶圓、800nm制程工藝的光刻機，也不能生產6英寸晶圓、800nm制程工藝的半導體生產線。

    BSEC還要去買先進的光學系統，進口6英寸晶圓、光刻膠、掩膜版等材料和設備，經過系統合成，就是能生產6英寸晶圓、800nm制程工藝的光刻機，只能算組裝。

    前世ASML生產的EUV光刻機，據說90%的零部件都是從全球5000多家公司采購的，但EUV光源（收購了Cymer）和雙工作臺系統等關鍵技術是自己的，還參股了Zeiss SMT AG近三成的股權，將光刻機的三大核心技術掌握在手里，由于壟斷經營，凈利潤高達五成，全球5000多家零部件公司排隊供應零部件。

    只要搭上ASML這列豪華列車，零部件公司的股價就會暴漲。

    各國制定的《反壟斷法》在ASML面前如同一張白紙！

    鄧國輝拿到ArF準分子激光器專利技術，同光源研究所所長助理錢富強仔細研究一番后，如醍醐灌頂，豁然開朗，第二天就申請2000萬元的研發資金，定購新的機器設備和材料，如今帶領光源研究所在新的實驗室內，按照GCA提供的技術圖紙，消化吸收ArF準分子激光器專利技術，為研究ArFi準分子激光器和浸入式系統做準備。